吾郷(A01)、末永(A03)、Lin(公募A03)の論文がNature Electronics誌に掲載され、
九州大学、大阪大学、産総研、JSTよりプレスリリースされました。

◆九州大学
https://www.kyushu-u.ac.jp/ja/researches/view/868

◆大阪大学
https://resou.osaka-u.ac.jp/ja/research/2023/20230207_1

◆産総研
https://www.aist.go.jp/aist_j/press_release/pr2023/pr20230207/pr20230207.html

◆JST
https://www.jst.go.jp/pr/announce/20230207/

プレスリリースタイトル
六⽅晶窒化ホウ素の⼤⾯積合成とグラフェン集積デバイスを実現
⼤きな絶縁性⼆次元材料で半導体産業の未来へ貢献

論文タイトル
Large-area synthesis and transfer of multilayer hexagonal boron nitride for enhanced graphene device arrays

著者
Satoru Fukamachi, Pablo Solís-Fernández, Kenji Kawahara, Daichi Tanaka, Toru Otake,Yung-Chang Lin, Kazu Suenaga, Hiroki Ago

Publication Date: 06 February 2023
https://doi.org/10.1038/s41928-022-00911-x