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Heteroepitaxial growth of CaGe2 films on high-resistivity Si(111) substrates and its application for germanane synthesizing
K. Okada, S. Shibayama, M. Sakashita, O. Nakatsuka, M. Kurosawa
Mater. Sci. Semicond. Process., 161, 107462 (2023)
DOI: 10.1016/j.mssp.2023.107462
原著論文/PaperA01:2022年度公募研究A01 黒澤 昌志 / MASASHI KUROSAWA -
14 族半導体ナノシートの結晶成⻑とデバイス応用
黒澤昌志
(2022)
2022年度 応用物理学会東海ニューフロンティアリサーチワークショップ・東海地区若手チャプタージョイントワークショップ
A01:2022年度公募研究A01 黒澤 昌志 / MASASHI KUROSAWA -
高濃度n型ドープSi₁−xSnx薄膜で観測された巨大熱電能
大岩 樹(黒澤研)
(2023)
A01:2022年度公募研究A01 黒澤 昌志 / MASASHI KUROSAWA -
A new challenge in group-IV materials: energy harvesting application & 2D crystal synthesizing
M. Kurosawa, A. Ohta, M. Araidai, S. Shibayama, M. Sakashita, and O. Nakatsuka
(2023)
14th International Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics
A01:2022年度公募研究A01 黒澤 昌志 / MASASHI KUROSAWA -
高濃度n型ドープSi1−xSnx薄膜の低温熱電物性評価
大岩 樹(黒澤研)
(2023)
http://alice.xtal.nagoya-u.ac.jp/nanoeledev/image/2023_Phonon_Engineering_Poster.jpg
A01:2022年度公募研究A01 黒澤 昌志 / MASASHI KUROSAWA